フォトレジストが塗布された基板をマスクに重ね合わせ、パターンを焼付けする露光装置で、多層露光におけるオートアライメントができるようにスコープとX・Y・θステージ機構を備え、また基板の供給・アライメント・露光・排出を自動で行います。
主な特長
- 独自の平行出し機構により、マスクとウェハ間のプロキシミティギャップを高精度に設定。
- 独自の高速画像処理技術による高精度なアライメントを実現。
- プリアライメントを画像処理技術により薄型基板や反り基板、水晶など割れやすいウェハにも対応。(オプション)
- 独自のコンタクト圧精密制御機構により、マスクにウェハを高精度にコンタクト可能。
- ウェハの裏面真空吸着方式により、高速・高精度で安定した自動搬送を実現。
主な仕様
| MA-4000 | |||
|---|---|---|---|
| ウェハサイズ | Ø2～4″ | Ø4～6″ | |
| マスクサイズ | □5″ | □7″ | |
| 光源 | 超高圧水銀灯：500W or 1kW | ||
| 外形寸法および重量 | 本体寸法 | W1340 x D1430 x H1900mm | |
| 本体重量 | 1120kg | ||
| オプション | 生産管理システム(D-Net)、裏面アライメント、 ○□基板兼用 | ||
※基板サイズや水銀灯のワット数、特殊仕様のご相談を受け付けております。
