2023年東工場構内に東工場 南棟を増設
2021年デスクトップアライナーの開発・販売開始
2020年Ø8”ウエハ用 新型マスクアライナーの開発・販売開始
2019年SCREEN GA2019 Best Supplier Awardを受賞
2018年LEDランプハウス搭載露光機販売開始
2017年INDEXテクノロジーズ(株)を吸収合併
2015年東京営業所 開設
2014年フィルム用Roll to Roll両面露光装置の開発

1μmパターン用マスクレス露光装置の開発　
2013年ウェハ用タイトリング装置の開発・出荷を開始
2012年インダクター用露光装置の開発・出荷を開始
2011年LED、LD用ステッパの開発
2010年新型画像処理装置（GA-LITE)の開発・出荷を開始

3μm・5μmパターン用マスクレス露光装置の開発
2009年京都右京税務署より優良申告法人の継続再表敬を受賞

レーザリペア装置の製造・販売権を取得
2008年MUM露光装置を開発し、経済産業省　関西フロントランナー大賞を受賞

TOUCH PANEL用露光機の開発・出荷を開始
2007年三次元微細加工（MEMS）用露光機の開発
2006年資本金2億4千万円でボールセミコンダクター(株)とのジョイントベンチャー「INDEXテクノロジーズ(株)」設立、本社を京都市南区に置き、マスクレス露光機の開発を開始

KES・環境マネジメントシステム ステップ2登録
2005年京都市伏見区横大路天王後に横大路工場を開設
2004年東工場構内に東第二工場（大型装置対応）を増設
2003年京都市南区久世築山町445番地2に久世工場を開設

PWB用Roll to Roll露光機の開発・出荷を開始

LED、LD用露光機の開発・出荷を開始
2002年有機EL用封止装置の開発・出荷を開始

第5世代用2軸ステップ露光機の開発
2001年有機EL用露光機の開発・出荷を開始
2000年韓国・台湾にサービス拠点開設
1999年ISO9001認証取得
1998年プリント配線板量産用露光機の開発・出荷を開始

縦型ステップ露光機の開発・出荷を開始
1997年全国安全週間で労働大臣より進歩賞を受賞

京都右京税務署長より優良申告法人の継続再表敬を受賞

PDP用露光機の開発・出荷を開始
1996年縦型方式大型基板用プロキシミティ露光機の出荷を開始

東工場1Fに大型機対応クリーンルームを設置

社内LANの運用を開始
1994年LCD量産用第3期ライン向装置の開発を開始
1993年基板タイトラの出荷を開始

線幅測定機の出荷を開始
1992年創立25周年記念式典を実施

全国安全週間で京都労働基準局長より優良賞を受賞

京都右京税務署長より優良申告法人の表敬を受賞

CADを本格的に導入
1991年東工場2Fにクリーンルームを設置
1990年変形ステージ搭載大型基板用プロキシミティ露光機の出荷を開始
1989年ギャップセンサ搭載ノンコンタクト大型基板用プロキシミティ露光機の出荷を開始

京都市南区久世殿城町190番地1に東工場を新設

二次元CCDセンサ方式自動アライメント露光機の出荷を開始
1988年ギャップセンサを完成

ハイブリッド基板用ステップ露光機の出荷を開始
1987年創立20周年記念式典を実施

全国安全週間で京都労働基準局長より進歩賞を受賞
1986年TABシステム用縦型・高性能オートハンドラを完成
1985年二次元CCDセンサ方式位置決め装置を完成
1984年LCDカラーフィルタ用自動アライメント露光機の出荷を開始

新方式大型光源搭載の露光機の出荷を開始
1983年LCD用露光機の大型化はじまる
1982年創立15周年記念式典を実施

LCD用自動アライメント露光機の出荷を開始

本社工場内にクリーンルームを設置

サーマルプリントヘッド用自動アライメント露光機の出荷を開始
1981年京都市西京区大原野石見町28番地1に大原野工場を開設

ラインセンサ方式自動アライメント装置を完成
1980年大型マスク自動作図機を手掛ける
1979年本社構内に南館を増設

本社工場にオフィスコンピュータを導入、OA化推進に着手
1977年サーマルプリントヘッド用スキャニング露光機の出荷を開始

LCD用露光機の出荷を開始

テストハンドラの出荷を開始
1976年新方式光源（楕円鏡-マルチレンズ方式）を完成
1975年TAB露光機の出荷を開始
1974年本社及び工場を京都府向日市寺戸町久々相1番地に新設

真空密着式露光機の出荷を開始
1973年新型精密縮小カメラ・自動コンタクトプリンタの出荷を開始
1971年サーマルプリントヘッド試作用アライメント露光機の出荷を開始

資本金を5,000万円に増資
1970年半導体用マスク自動作図機等の開発を手掛ける

資本金を4,000万円に増資
1969年四筒式全自動縮小多面焼付カメラの出荷を開始
1968年半導体用露光機器・マスク製作用機器・二元比較測定機器の出荷を開始

資本金を2,500万円に増資
1967年資本金250万円で株式会社大日本科研を設立、本社を京都市上京区五辻通智恵光院西入に置く