主な特長
- 独自の高速画像処理技術でウェハとマスクを高精度にアライメント
- ローダ、アンローダ側にカセットを各２個までセット可能（オプション）
- 冷却機構により基板ステージとマスクの温度管理が可能（オプション）
- 独自のミラー光学系ランプハウスを搭載。照射面内均一性、高照度を実現
- 非接触プリアライナを搭載。基板を傷つけることなく高精度な送り込みを実現
- オートマスクチェンジャを搭載。マスクライブラリ対応可能
主な仕様
| MA-4301M | ||
|---|---|---|
| ウェハサイズ | 材質 | Si,ガラス |
| 寸法 | Ø6″ x t0.625 mm(6″ = Ø150 mm) +/- 0.2 mm | |
| Ø8″ x t0.725 mm(8″ = Ø200 mm) +/- 0.2 mm | ||
| タクトタイム | プロキシミティ方式露光時：19 s/wafer (1ロット1回平行補正時) |
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| アライメント精度 | オートアライメント：+/- 1 μm (ピークサーチ) |
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| ギャップ | 1 to 200 μm サーボモータ 設定分解能：1 μm |
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| 露光方式 | ソフトコンタクト ハードコンタクト プロキシミティ |
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| 寸法・重量 | 本体寸法：W 1800 x D 1650 x H 2015 mm 総重量(ランプハウス含む)：1400 kg |
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