主な特長
- 独自の高速画像処理技術でウェハとマスクを高精度にアライメント
- オートマスクチェンジャを搭載することによりマスクライブラリ対応可能
- 非接触プリアライナを搭載し、基板を傷つけることなく高精度な送り込みを実現
- 独自の平行補正機構により、マスクとウェハ間のプロキシミティギャップを高精度に制御
- 独自のミラー光学系ランプハウスを搭載することで、照射面内均一性/高照度を実現
主な仕様
| MA-4301M | |
| ウェハサイズ | Ø200mm / Ø300mm |
| タクトタイム | 32sec/wafer |
| アライメント精度 | 表面アライメント精度 ： ±1μm 裏面アライメント精度 ： ±1.5μm |
| GAP設定範囲 | 1～200μm |
| 露光方式 | プロキシミティ/ソフトコンタクト/ハードコンタクト/バキュームコンタクト |
| 本体サイズ | W2600 x D2300 x H2350mm |
※基板サイズや特殊仕様のカスタマイズを承っておりますので、お気軽に問い合わせください
