超大型基板用縦型プロキシミティ露光装置

大型基板（42インチ16面）の均一露光を実現するプロキシミティ露光機です。

主な特長

• 高精度を支える独自技術
  ＜光学ギャップセンサ＞ プロキシミティギャップを非接触で高速・高精度設定。
  ＜高速画像処理技術＞ マスクおよびマスクと基板の高精度アライメント。
• 安定搬送
  マスクホルダ、基板ステージを縦に配置し、マスク、マスクホルダ、基板ステージの自重たわみ補正が不要。
• クリーン対策
  パーティクルに対する要求がより厳しいＣＦ用露光装置等での実績、設計をもとに、駆動部での発塵対策や気流を考慮したクリーン対策を実現。

技術的優位性

1. 大型基板の全面一括露光が可能。
2. 露光面でのマスクと基板を垂直に構成することで自重によるたわみ補正が不要。
3. 自社開発の非接触光学式ギャップセンサにより、マスクと基板間のプロキシミティギャップを高速・高精度に設定可能。
4. 非接触エッジセンサにより、基板を高精度にプリアライメント可能。
5. マスクおよびマスクと基板間の位置を独自の高速画像処理により高精度にアライメント可能。
6. 低ディクリネーション角の光学系採用による転写精度の向上。
7. 独自のミラー光学系設計による全面均一平行光照射を実現。
8. 本体と光源部の完全分離により本体部への熱影響の低減。